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            深圳市諾林電子科技有限公司

            Shenzhen Nuolin Electronic Technology Co.,ltd

            曝光機的分類介紹

            作者:諾林電子     瀏覽:239     發表時間:2017-09-13 15:41:57 來源:原創

            深圳市諾林電子有限公司是一家專業生產曝光機的廠家,訂購熱線:0755-61513569

            [曝光機]的優缺點:

            缺點:光刻膠污染掩膜板;掩膜板的磨損,容易損壞,壽命很低(只能使用5~25次);容易累積缺陷;上個世紀七十年代的工業水準,已經逐漸被接近式曝光方式所淘汰了,國產光刻機均為接觸式曝光,國產光刻機的開發機構無法提供工藝要求更高的非接觸式曝光的產品化.

            b.接近式曝光(Proximity Printing):掩膜板與光刻膠基底層保留一個微小的縫隙(Gap),Gap大約為0~200μm.可以有效避免與光刻膠直接接觸而引起的掩膜板損傷,使掩膜和光刻膠基底能耐久使用;掩模壽命長(可提高10 倍以上),圖形缺陷少.接近式在現代光刻工藝中應用最為廣泛.

            c.投影式曝光(Projection Printing):在掩膜板與光刻膠之間使用光學系統聚集光實現曝光.一般掩膜板的尺寸會以需要轉移圖形的4倍制作.優點:提高了分辨率;掩膜板的制作更加容易;掩膜板上的缺陷影響減小.

            [曝光機]一般根據操作的簡便性分為三種,手動,半自動,全自動,光刻機又名:掩模對準曝光機,曝光系統,光刻系統等.一般的光刻工藝要經歷硅片表面清洗烘干,涂底,旋涂光刻膠,軟烘,對準曝光,后烘,顯影,硬烘,刻蝕等工序.


            光刻意思是用光來制作一個圖形(工藝),在硅片表面勻膠,然后將掩模版上的圖形轉移光刻膠上的過程將器件或電路結構臨時復制到硅片上的過程.


            [曝光機]的曝光分類:

            a.接觸式曝光(Contact Printing):膜板直接與光刻膠層接觸.曝光出來的圖形與掩膜板上的圖形分辨率相當,設備簡單.接觸式,根據施加力量的方式不同又分為:軟接觸,硬接觸和真空接觸.


            1.軟接觸 就是把基片通過托盤吸附?。愃朴趧蚰z機的基片放置方式),掩膜蓋在基片上面;

            2.硬接觸 是將基片通過一個氣壓(氮氣),往上頂,使之與掩膜接觸;

            3.真空接觸 是在掩膜和基片中間抽氣,使之更加好的貼合(想一想把被子抽真空放置的方式)

            <硬<真空 接觸的越緊密,分辨率越高,當然接觸的越緊密,掩膜和材料的損傷就越大.


             

            版權深圳市諾林電子科技有限公司 如涉及版權問題請及時聯系處理

            環保節能型產品LED曝光機,10KW雙面曝光機,8KW雙面曝光機,5KW風冷型曝光機,手動型干膜壓膜機

            歡迎訪問深圳市諾林電子科技有限公司(http://www.vickiecammack.com/)

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            公司名稱:深圳市諾林電子科技有限公司

            手機:13316823280

            電話:0755—61513569 

            傳真:0755—23225589

            郵箱:yazhen2001@163.com

            公司地址:深圳市寶安區沙井萬豐中路234-1棟創輝工業園07號


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